对于高抛光粉来讲，氧化的品位越高，抛光能力越大，稀土抛光粉生产工艺，使用寿命也增加，---是硬质玻璃长时间循环抛光时（石英、光学镜头等），以使用高品位的抛光粉为宜。低抛光粉一般含有50%左右的ceo2，其余50%为la2o3?so3，nd2o3?so3，pr6o11?so3等碱性盐或laof、ndof、prof等碱性---物，此类抛光粉特点是成本低及初始抛光能力与高抛光粉比几乎没有两样，因而广泛用于平板玻璃、显像管玻璃、眼镜片等的玻璃抛光，但使用寿命难免要比高抛光粉低。
原料***干法细磨***配料***混粉***焙烧***磨细筛分***低级系稀土抛光粉产品。主要设备：球磨机，混料机，焙烧炉，筛分机等。主要指标：产品中w（reo）***95%，w（ceo2）***50%;稀土回收率***95%;产品粒度为1.5μm~2.5μm.该产品适合于眼镜片、电视机显象管的高速抛光之用。目前，国内生产的低级系稀土抛光粉的量，约占总产量的90%以上。
主要指标：产品中w（reo）=99%，稀土抛光粉作用，w（ceo2）=99%;稀土回收率约95%;平均粒经1μm~6μm（或粒度为200目~300目），晶形完好。该产品适用于高速抛光。这种高抛光粉早代替了古典抛光的氧化铁粉（）。
1.4.2中系稀土抛光粉的制备
用混合稀土氢氧化物（w（reo）=65%，w（ceo2）***48%）为原料，以化学方法预处理得稀土盐溶液，加入中间体（沉淀剂）使转化成w（ceo2）=80%~85%的中级系稀土抛光粉产品。其主要工艺过程为：
原料***氧化***优溶***过滤***酸溶***沉淀***洗涤过滤***高温煅烧***细磨筛分***中级系稀土抛光粉产品。主要设备：氧化槽，稀土抛光粉生产，优溶槽，酸溶槽，汕尾稀土抛光粉，沉淀槽，过滤机，煅烧炉，细磨筛分机及包装机。
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