因此其粒度分布一般不大于10μm，粒度大于10μm的抛光粉（包括稀土抛光粉）大多用在玻璃加工初期的粗磨。小于1μm的亚微米级稀土抛光粉，稀土抛光粉，由于在液晶显示器与电脑光盘领域的应用逐渐受到重视，产量逐年提高。纳米级稀土抛光粉目前也已经问世，随着现代科学技术的发展，稀土抛光粉公司，其应用前景不可预测，但目前其市场份额还很小，属于研发阶段。
以稀土抛光粉中ceo2量来划分：
稀土抛光粉的主要成分是ceo2，据其ceo2量的高低可将抛光粉分为两大类：一类是ceo2含量高的价高---的高抛光粉，一般ceo2/treo***80%，另一类是ceo2含量低的廉价的低抛光粉，其含量在50%左右，或者低于50%，其余由la2o3，nd2o3，稀土抛光粉价格，pr6o11组成。
原料***干法细磨***配料***混粉***焙烧***磨细筛分***低级系稀土抛光粉产品。主要设备：球磨机，混料机，焙烧炉，筛分机等。主要指标：产品中w（reo）***95%，w（ceo2）***50%;稀土回收率***95%;产品粒度为1.5μm~2.5μm.该产品适合于眼镜片、电视机显象管的高速抛光之用。目前，国内生产的低级系稀土抛光粉的量，约占总产量的90%以上。
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