因此其粒度分布一般不大于10μm，粒度大于10μm的抛光粉（包括稀土抛光粉）大多用在玻璃加工初期的粗磨。小于1μm的亚微米级稀土抛光粉，由于在液晶显示器与电脑光盘领域的应用逐渐受到重视，产量逐年提高。纳米级稀土抛光粉目前也已经问世，随着现代科学技术的发展，其应用前景不可预测，但目前其市场份额还很小，属于研发阶段。
以稀土抛光粉中ceo2量来划分：
稀土抛光粉的主要成分是ceo2，据其ceo2量的高低可将抛光粉分为两大类：一类是ceo2含量高的价高---的高抛光粉，一般ceo2/treo***80%，稀土抛光粉生产厂家，另一类是ceo2含量低的廉价的低抛光粉，其含量在50%左右，稀土抛光粉的价格，或者低于50%，其余由la2o3，nd2o3，潮州稀土抛光粉，pr6o11组成。
此外，稀土抛光粉生产工艺，稀土抛光粉也可以根据其添加剂的不同种类来划分，稀土抛光粉生产技术属于微粉工程技术，稀土抛光粉属于超细粉体，国际上一般将超细粉体分3种：纳米级（1nm~100nm）；亚微米级（100nm~1μm）；微米级（1μm~100μm），据此分类方法，稀土抛光粉可以分为：纳米级稀土抛光粉、亚微米级稀土抛光粉及微米级稀土抛光粉3类，通常我们使用的稀土抛光粉一般为微米级，其粒度分布在1μm~10μm之间，稀土抛光粉根据其物理化学性质一般使用在玻璃抛光的后工序，进行精磨
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