因此其粒度分布一般不大于10μm，粒度大于10μm的抛光粉（包括稀土抛光粉）大多用在玻璃加工初期的粗磨。小于1μm的亚微米级稀土抛光粉，由于在液晶显示器与电脑光盘领域的应用逐渐受到重视，产量逐年提高。纳米级稀土抛光粉目前也已经问世，稀土抛光粉，随着现代科学技术的发展，其应用前景不可预测，但目前其市场份额还很小，属于研发阶段。
以上原料中除种外，第2，3，4种均含轻稀土（w（reo）≈98%），且以ceo2为主，w（ceo2）为48%~50%.我国具有丰富的资源，据---，其工业储量约为1800万吨（以ceo2计），这为今后我国持续发展稀土抛光粉奠定了坚实的基础，也是我国---的一大优势，稀土抛光粉成分，并可促进我国稀土工业继续高速发展。
1.4主要生产工艺及设备
1.4.1高系稀土抛光粉的生产
以稀土混合物分离后的氧化为原料，以物理化学方法加工成硬度大，粒度均匀、细小，呈面心立方晶体的粉末产品。其主要工艺过程为：原料***高温***煅烧***水淬***水力分级***过滤***烘干***系稀土抛光粉产品。
目前，我国生产系稀土抛光粉的原料有下列几种：（1）氧化（ceo2），由混合稀土盐类经分离后所得（w（ceo2）=99%）；（2）混合稀土氢氧化物（re（oh）3），为稀土精矿（w（reo）***50%）化学处理后的中间原料（w（reo）=65%，w（ceo2）***48%）；（3）混合氯化稀土（recl3），从混合氯化稀土中萃取分离得到的少铕氯化稀土（主要含la，稀土抛光粉作用，ce，pr和nd，w（reo）***45%，w（ceo2）***50%）；（4）高品位稀土精矿（w（reo）***60%，w（ceo2）***48%），有内蒙古包头混合型稀土精矿，山东微山和四川冕宁的氟碳矿精矿。
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