此外，稀土抛光粉也可以根据其添加剂的不同种类来划分，稀土抛光粉，稀土抛光粉生产技术属于微粉工程技术，稀土抛光粉属于超细粉体，国际上一般将超细粉体分3种：纳米级（1nm~100nm）；亚微米级（100nm~1μm）；微米级（1μm~100μm），据此分类方法，稀土抛光粉可以分为：纳米级稀土抛光粉、亚微米级稀土抛光粉及微米级稀土抛光粉3类，通常我们使用的稀土抛光粉一般为微米级，其粒度分布在1μm~10μm之间，稀土抛光粉根据其物理化学性质一般使用在玻璃抛光的后工序，进行精磨
因此其粒度分布一般不大于10μm，稀土抛光粉生产厂家，粒度大于10μm的抛光粉（包括稀土抛光粉）大多用在玻璃加工初期的粗磨。小于1μm的亚微米级稀土抛光粉，稀土抛光粉作用，由于在液晶显示器与电脑光盘领域的应用逐渐受到重视，产量逐年提高。纳米级稀土抛光粉目前也已经问世，随着现代科学技术的发展，其应用前景不可预测，但目前其市场份额还很小，属于研发阶段。
主要指标：产品中w（reo）=99%，w（ceo2）=99%;稀土回收率约95%;平均粒经1μm~6μm（或粒度为200目~300目），稀土抛光粉厂家，晶形完好。该产品适用于高速抛光。这种高抛光粉早代替了古典抛光的氧化铁粉（）。
1.4.2中系稀土抛光粉的制备
用混合稀土氢氧化物（w（reo）=65%，w（ceo2）***48%）为原料，以化学方法预处理得稀土盐溶液，加入中间体（沉淀剂）使转化成w（ceo2）=80%~85%的中级系稀土抛光粉产品。其主要工艺过程为：
原料***氧化***优溶***过滤***酸溶***沉淀***洗涤过滤***高温煅烧***细磨筛分***中级系稀土抛光粉产品。主要设备：氧化槽，优溶槽，酸溶槽，沉淀槽，过滤机，煅烧炉，细磨筛分机及包装机。
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