因此其粒度分布一般不大于10μm，粒度大于10μm的抛光粉（包括稀土抛光粉）大多用在玻璃加工初期的粗磨。小于1μm的亚微米级稀土抛光粉，由于在液晶显示器与电脑光盘领域的应用逐渐受到重视，产量逐年提高。纳米级稀土抛光粉目前也已经问世，随着现代科学技术的发展，其应用前景不可预测，但目前其市场份额还很小，属于研发阶段。
目前，我国生产系稀土抛光粉的原料有下列几种：（1）氧化（ceo2），由混合稀土盐类经分离后所得（w（ceo2）=99%）；（2）混合稀土氢氧化物（re（oh）3），为稀土精矿（w（reo）***50%）化学处理后的中间原料（w（reo）=65%，w（ceo2）***48%）；（3）混合氯化稀土（recl3），从混合氯化稀土中萃取分离得到的少铕氯化稀土（主要含la，ce，稀土抛光粉厂家，pr和nd，w（reo）***45%，稀土抛光粉公司，w（ceo2）***50%）；（4）高品位稀土精矿（w（reo）***60%，w（ceo2）***48%），有内蒙古包头混合型稀土精矿，山东微山和四川冕宁的氟碳矿精矿。
主要指标：产品中w（reo）=99%，潮州稀土抛光粉，w（ceo2）=99%;稀土回收率约95%;平均粒经1μm~6μm（或粒度为200目~300目），稀土抛光粉生产，晶形完好。该产品适用于高速抛光。这种高抛光粉早代替了古典抛光的氧化铁粉（）。
1.4.2中系稀土抛光粉的制备
用混合稀土氢氧化物（w（reo）=65%，w（ceo2）***48%）为原料，以化学方法预处理得稀土盐溶液，加入中间体（沉淀剂）使转化成w（ceo2）=80%~85%的中级系稀土抛光粉产品。其主要工艺过程为：
原料***氧化***优溶***过滤***酸溶***沉淀***洗涤过滤***高温煅烧***细磨筛分***中级系稀土抛光粉产品。主要设备：氧化槽，优溶槽，酸溶槽，沉淀槽，过滤机，煅烧炉，细磨筛分机及包装机。
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