主要指标：产品中w（reo）=99%，w（ceo2）=99%;稀土回收率约95%;平均粒经1μm~6μm（或粒度为200目~300目），晶形完好。该产品适用于高速抛光。这种高抛光粉早代替了古典抛光的氧化铁粉（）。
1.4.2中系稀土抛光粉的制备
用混合稀土氢氧化物（w（reo）=65%，w（ceo2）***48%）为原料，以化学方法预处理得稀土盐溶液，加入中间体（沉淀剂）使转化成w（ceo2）=80%~85%的中级系稀土抛光粉产品。其主要工艺过程为：
原料***氧化***优溶***过滤***酸溶***沉淀***洗涤过滤***高温煅烧***细磨筛分***中级系稀土抛光粉产品。主要设备：氧化槽，稀土抛光粉生产，优溶槽，酸溶槽，汕头稀土抛光粉，沉淀槽，过滤机，煅烧炉，细磨筛分机及包装机。
国外于60年前开始生产稀土抛光粉，稀土抛光粉价格，二十世纪90年代已形成各种标准化、系列化的产品达30多种规格牌号。
目前，国外的稀土抛光粉生产厂家主要有15家（年生产能力为200吨以上者）。其中，法国罗地亚公司年生产能力为2200多吨。是目前大的稀土抛光粉生产厂家。美国的抛光粉年产量能力达1500吨以上。
。日本生产稀土抛光粉的原料采用氟碳矿、粗氯化和氯化稀土三种，工艺上各不相同。日本稀土抛光粉的生产在烧结设备和技术上均具特色。1968年，我国在上海跃龙化工厂研制成功稀土抛光粉。以稀土抛光粉中ceo2量来划分：
稀土抛光粉的主要成分是ceo2，稀土抛光粉公司，据其ceo2量的高低可将抛光粉分为两大类：一类是ceo2含量高的价高---的高抛光粉，一般ceo2/treo***80%，另一类是ceo2含量低的廉价的低抛光粉，其含量在50%左右，或者低于50%，其余由la2o3，nd2o3，pr6o11组成。
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