目前，我国生产系稀土抛光粉的原料有下列几种：（1）氧化（ceo2），由混合稀土盐类经分离后所得（w（ceo2）=99%）；（2）混合稀土氢氧化物（re（oh）3），为稀土精矿（w（reo）***50%）化学处理后的中间原料（w（reo）=65%，w（ceo2）***48%）；（3）混合氯化稀土（recl3），从混合氯化稀土中萃取分离得到的少铕氯化稀土（主要含la，湛江稀土抛光粉，ce，pr和nd，w（reo）***45%，w（ceo2）***50%）；（4）高品位稀土精矿（w（reo）***60%，w（ceo2）***48%），有内蒙古包头混合型稀土精矿，山东微山和四川冕宁的氟碳矿精矿。
因此其粒度分布一般不大于10μm，稀土抛光粉生产，粒度大于10μm的抛光粉（包括稀土抛光粉）大多用在玻璃加工初期的粗磨。小于1μm的亚微米级稀土抛光粉，由于在液晶显示器与电脑光盘领域的应用逐渐受到重视，红色稀土抛光粉，产量逐年提高。纳米级稀土抛光粉目前也已经问世，随着现代科学技术的发展，其应用前景不可预测，但目前其市场份额还很小，属于研发阶段。
在稀土抛光粉的消费中，日本是消费者，每年约生产3550吨~4000吨抛光粉，产值35亿~40亿日元，还从法国、美国和进口部分抛光粉。其中抛光粉消费市场是彩电阴极射线管。二十世纪90年代中期，日本阴极射线管的生产转向海外，而平面显示产品产量迅速增加，稀土抛光粉成分，对基抛光粉的需求量也迅速增加。估计日本在液晶显示用平面显示器生产上消费的抛光粉约占其市场的50%.90年代以来，日本将其阴极射线管用抛光粉的生产技术和设备向海外转移，如：日本清美化学从1989年开始在海外生产阴极射线管用基抛光粉。
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