原料***干法细磨***配料***混粉***焙烧***磨细筛分***低级系稀土抛光粉产品。主要设备：球磨机，混料机，焙烧炉，筛分机等。主要指标：产品中w（reo）***95%，w（ceo2）***50%;稀土回收率***95%;产品粒度为1.5μm~2.5μm.该产品适合于眼镜片、电视机显象管的高速抛光之用。目前，国内生产的低级系稀土抛光粉的量，约占总产量的90%以上。
（氧化铁）是历早使用的抛光材料，但它的抛---度慢，而且铁锈色的污染也无法消除。随着稀土工业的发展，于二十世纪30年代，惠州稀土抛光粉，首先在欧洲出现了用稀土氧化物作抛光粉来抛光玻璃。在第二次中，一个在伊利诺斯州罗克福德的wf和barnesj公司工作的雇员，于1943年提出了一种叫做巴林士粉（barnesite）的稀土氧化物抛光粉，这种抛光粉很快在抛光精密光学仪器方面获得成功。由于稀土抛光粉具有抛光、---、污染小等优点，激起了美国等的群起研究。这样，红色稀土抛光粉，稀土抛光粉就以取代传统抛光粉的趋势迅速发展起来。
因此其粒度分布一般不大于10μm，粒度大于10μm的抛光粉（包括稀土抛光粉）大多用在玻璃加工初期的粗磨。小于1μm的亚微米级稀土抛光粉，由于在液晶显示器与电脑光盘领域的应用逐渐受到重视，稀土抛光粉价格，产量逐年提高。纳米级稀土抛光粉目前也已经问世，随着现代科学技术的发展，其应用前景不可预测，但目前其市场份额还很小，属于研发阶段。
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