以上原料中除种外，第2，3，4种均含轻稀土（w（reo）≈98%），稀土抛光粉生产工艺，且以ceo2为主，w（ceo2）为48%~50%.我国具有丰富的资源，据---，其工业储量约为1800万吨（以ceo2计），这为今后我国持续发展稀土抛光粉奠定了坚实的基础，也是我国---的一大优势，并可促进我国稀土工业继续高速发展。
1.4主要生产工艺及设备
1.4.1高系稀土抛光粉的生产
以稀土混合物分离后的氧化为原料，以物理化学方法加工成硬度大，粒度均匀、细小，稀土抛光粉生产厂家，呈面心立方晶体的粉末产品。其主要工艺过程为：原料***高温***煅烧***水淬***水力分级***过滤***烘干***系稀土抛光粉产品。
以稀土抛光粉中ceo2量来划分：
稀土抛光粉的主要成分是ceo2，据其ceo2量的高低可将抛光粉分为两大类：一类是ceo2含量高的价高---的高抛光粉，中山稀土抛光粉，一般ceo2/treo***80%，另一类是ceo2含量低的廉价的低抛光粉，其含量在50%左右，或者低于50%，其余由la2o3，nd2o3，pr6o11组成。
因此其粒度分布一般不大于10μm，粒度大于10μm的抛光粉（包括稀土抛光粉）大多用在玻璃加工初期的粗磨。小于1μm的亚微米级稀土抛光粉，由于在液晶显示器与电脑光盘领域的应用逐渐受到重视，产量逐年提高。纳米级稀土抛光粉目前也已经问世，随着现代科学技术的发展，其应用前景不可预测，但目前其市场份额还很小，属于研发阶段。
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